掩模板清洗機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來愈長(zhǎng)，受電場(chǎng)作用，微波等離子清洗機(jī)發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)，不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體，從而達(dá)到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。微波等離子清洗機(jī)利用等離子處理時(shí)會(huì)發(fā)出輝光，故稱之為輝光放電處理。

　　掩模板清洗機(jī)的應(yīng)用：

　　1.帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片

　　2.Ge,GaAs以及InP晶圓片清洗

　　3.CMP處理后的晶圓片清洗

　　4.晶圓框架上的切粒芯片清洗

　　5.等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗

　　6.帶保護(hù)膜的分劃版清洗

　　7.掩模版空白部位或接觸部位清洗

　　8.X射線及極紫外掩模版清洗

　　9.光學(xué)鏡頭清洗

　　10.ITO涂覆的顯示面板清洗

　　11.兆聲輔助的剝離工藝

　　掩模板清洗機(jī)還提供了一系列的選配功能。PVA軟毛刷提供了機(jī)械的方式去除無圖案基片上的污點(diǎn)和殘膠。DI水臭氧化的選配項(xiàng)提供了有機(jī)物的去除，而無須腐蝕性的化學(xué)試劑。我們的氫化DI水系統(tǒng)跟兆聲能量結(jié)合可以達(dá)到納米級(jí)的顆粒去除。根據(jù)不同的應(yīng)用，某些選配項(xiàng)將會(huì)進(jìn)一步提高設(shè)備去除不想要的顆粒和殘留物的能力。